공학 좋아하세요? 전 별로

Photolithography를 진행하려면 당연히 Photoresist가 필요하겠죠? 이 PR에 대한 설명은 앞선 포토공정과 포토공정 설비들을 다룰때도 어느정도는 다루었던 주제입니다. 그래서 앞선 내용과 겹치는 부분도 있으나 복습한다는 느낌으로 봐주시면 될거 같네요! 먼저 PR을 분류를 할 수 있어야겠죠? pr은 일반적으로 두가지 기준점에 따라 분류됩니다. 1) 용해도에 따른 분류 노광 후 어느부분이 Developer에 용해되는지 여부에 따라서 분류하는 것인데요 Positive와 Negative로 분류 됩니다. 그런데 엄밀히 말하면 tone이라고 했던거 기억하시나요? Positive pr를 썻다 하여도 사용하는 developer에 따라서 tone이 바뀔 수 있기 때문에 무조건 Positve pr을 쓴다고..

드디어 pr에 우리가 원하는 패턴을 박아넣는 노광과 PEB공정까지 끝이 났군요. 패턴을 쏘아줬다면 이제는 패턴을 형성해봐야겠죠? 그 과정이 담긴 현상 공정에 대해서 한번 들어가 봅시다! 일단 먼저 현상공정이란 무엇인지 간단히 설명을 해드릴까요? 한마디로 설명하자면 PR의 일부 영역을 제거하여 패턴의 형상으로 pr을 남기는 공정을 뜻합니다. 이 현상공정에서 우리가 원하는 패턴이 드디어 만들어 진다는 것이죠. 그렇다면 어떻게 하는 걸까요? positive pr을 예로 들겠습니다. 빛을 받아서 화학적 반응을 일으킨 부분이 존재할텐데요 pr에 용액을 뿌리거나 용액에 담가준다면 빛을 받아서 화학적으로 반응한 부분만이 없어지겠죠? 일종의 선택적 wet etching이라고 할 수 있겠네요. 그래서 우리가 이 용액을 ..